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Líquido de pulido

La planarización mecánica química (CMP), también conocida como pulido mecánico químico, es una combinación de técnicas de abrasión mecánica y corrosión química. Se basa en la acción abrasiva de partículas ultrafinas y corrosión química para crear una superficie lisa y plana en el medio pulido. La tecnología CMP es una nueva técnica de pulido utilizada principalmente en la industria de fabricación de semiconductores. Los componentes principales del proceso CMP son la pieza de trabajo, la almohadilla de pulido y el líquido de pulido. El líquido de pulido generalmente está compuesto de abrasivos, agentes oxidantes y solventes de equilibrio como agua desionizada o alcohol, y también puede contener algunos aditivos basados en condiciones específicas. El líquido de pulido proporciona la acción química a través de la química de la solución y la acción mecánica a través de los abrasivos. Los abrasivos juegan un papel crucial en la transmisión de energía mecánica a la superficie pulida. Para lograr mejores resultados de pulido, es necesario controlar el tamaño de partícula, la dureza y la dispersión de los abrasivos. El tamaño abrasivo debe ser inferior a 1µm, ya que los tamaños abrasivos excesivamente grandes o pequeños pueden aumentar los arañazos en la superficie pulida y reducir la calidad del pulido. Filtrar el líquido de pulido es un método para mejorar la calidad del pulido, y seleccionar un sistema de filtración apropiado puede mejorar efectivamente el rendimiento de pulido del líquido de pulido.

Propósito de la filtración

● Para eliminar impurezas tales como partículas de gran tamaño y aglomerados mientras se retienen las partículas abrasivas de pulido adecuadas.

Requisitos de la aplicación

● Baja disolución de los medios de filtro durante el proceso de filtración, sin derramamiento de medio.

● El filtro se ha enjuagado con agua pura, y el contenido total de carbono orgánico (TOC) está dentro del rango especificado.

El ● el filtro terminal tiene confiabilidad y durabilidad excelentes en el control de las partículas de la impureza, asegurándose de que los contaminantes no están descargados cuando ocurren los cambios del flujo o de la presión.

● Alto caudal, estructura robusta y fuerte capacidad de filtrado para cumplir con los requisitos de pulido de filtración de líquidos.

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